品牌:晨立 | 规格:cl | 材质:1 |
产地:青岛 |
试验扩散炉 |
设备用途: 扩散炉是半导体加工中的典型热处理设备,用于大规模集成电路、分立器件、电力电子、光电器件、光导纤维等行业中进行扩散、氧化、退火、合金及烧结等工艺。 产品描述: ◆软着陆载片装置 软着陆送料装置,避免了SiC桨的遮挡影响,提高了扩散均匀性。同时桨的清洗周期大幅度延长。 ◆温度控制 新型炉体设计,提高了温度稳定性;配合温控仪的使用,保证工艺过程中温度的快速稳定。 ◆进口元器件组合 关键件采用进口管件,且为半导体级别;的元器件组合,从而保证成膜质量。 主要技术参数: ◆工艺管数量:1-4管 ◆工艺管口径:Φ90-360mm(3~12英寸) ◆结构型式:卧式热壁型 ◆工作温度范围:400~1280℃ ◆恒温区长度及精度±0.5℃/1080mm ◆工艺均匀性:≤±5%(30~60欧姆) ◆气体流量设定精度:±1%F.S ◆气路系统气密性: 1×10-7pa.m3/s ◆超净工作台:净化等级:100级(万级厂房) 噪音:≤62dB(A) 震动:≤3μm ◆控制方式: 工业微机控制 ◆记录工艺曲线数量及工艺步数不受限制 青岛晨立电子有限公司为各大技术院校、试验工程,专业打造试验扩散炉,可根据客户需求定制各种非标扩散炉和扩散炉系统。 |