石家庄铝氧化设备 保定氧化设备

石家庄铝氧化设备 保定氧化设备

氧化工艺:

上架——除油——水洗——酸蚀——水洗——水洗——碱蚀——水洗——水洗——中和出光——水洗——水洗——钳料——氧化——水洗——水洗——水洗——封孔——水洗——水洗——下架——风干——检验——包装

①型材上料前应将吊杆接触面打磨干净，并按标准支数上料，其计算公式：上料支数= 标准电流 标准电流密度×单支型材面积

②上架支数的考虑原则：

a、硅机容量利用率不大于95%；

b、电流密度取1.0—1.2A/dm;

c、型材形状和两支型材之间留必要的间隙；

③氧化时间的计算：氧化时间（t）= 膜厚 K·电流密度 K 为电解常数，取0.26—0.32，t单位为分钟；④上排时按照《型材面积及上排支数表》规定的支数上架；

⑤为了便于排液和排气，上排捆扎时应倾斜，倾斜度5°为宜；

⑥两端可超出导电杆10—20mm，多不得大于50mm。

三、低温抛光工艺

①低温抛光槽中低温抛光剂浓度控制为总酸25—30g/l，低≥15 g/l；

②抛光槽温20-30℃不得低于20℃，抛光时间90—200s；

③提架倾斜，滴净残液后，迅速放入清水槽中漂洗，经两道水洗后迅速放入氧化槽氧化